現(xiàn)代工業(yè)產(chǎn)品生產(chǎn)和現(xiàn)代化科學(xué)實驗活動要求微型化、精密化、高純度、高質(zhì)量和高可靠性，國內(nèi)外的潔凈工程的發(fā)展都是隨著科學(xué)工程的發(fā)展、工業(yè)產(chǎn)品的日新月異，特別是軍事工業(yè)、航天、電子和生物醫(yī)藥等工業(yè)的發(fā)展而不斷發(fā)展。

    高純度的產(chǎn)品，如生產(chǎn)集成電路所需單晶硅材料，生產(chǎn)光纖所需四敘化硅、四氯化錯材料等已由過去的所謂高純進入“電子純”“超純”，只有達到如此高的純度才能達到現(xiàn)代集成電路、電子元器件、光纖產(chǎn)品所需的工程特性。要生產(chǎn)如此高純度的產(chǎn)品，就必須達到相應(yīng)的受控生產(chǎn)環(huán)境的空氣潔凈度等級和具有相應(yīng)高純度的與產(chǎn)品直接接觸的超純水、超純氣體、超純試劑等?；谶@種趨勢，潔凈工程的發(fā)展已成為現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)和科學(xué)實驗活動不可缺少的重要標(biāo)志之一。

    20世紀(jì)60年代的潔凈工程在美國、歐洲等發(fā)達國家順應(yīng)各行各業(yè)產(chǎn)品生產(chǎn)和科學(xué)實驗活動的需要得到了廣泛應(yīng)用，可以認(rèn)為是潔凈工程的大發(fā)展時期。我國的潔凈工程開始于20世紀(jì)60年代初，在70年代電子工業(yè)潔凈室特別是半導(dǎo)體集成電路用潔凈室的設(shè)計、建造發(fā)展很快，相繼建成一批潔凈廠房，并研制成功100級單向流潔凈室。

    與此同時，潔凈工程的潔凈廠房用設(shè)備和材料，如高效過濾器，潔凈工作臺、層流罩、潔凈烘箱、空氣吹淵室、凈化型傳遞窗等相繼研制成功，并投入生產(chǎn)，雖然制造質(zhì)量和某些工程指標(biāo)與國際水平尚有差距，但已能滿足國內(nèi)部分需求。